Pat

J-GLOBAL ID：200903065855480590

ポジ型フオトレジスト組成物

Inventor： 河辺 保雅 ,  佐藤 健一郎 ,  青合 利明 ,  上西 一也
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994047327
Publication number (International publication number)：1995261382
Application date： Mar. 17, 1994
Publication date： Oct. 13, 1995
Summary：

【要約】【目的】 高解像力でかつ解像力の膜厚依存性が小さく、現像ラチチュードが広くてかつ現像残渣が発生しにくく、更に、経時による感光剤の析出やミクロゲルの発生がない、極めて優れた保存安定性を有する超微細加工用ポジ型フオトレジスト組成物を提供する。【構成】 アルカリ可溶性樹脂及び下記一般式(I)もしくは(II)で表されるポリヒドロキシ化合物の1,2-ナフトキノンジアジド-5-(及び/又は-4-)スルホン酸エステルを含有し、且つ、254nmの紫外線を用いて測定した高速液体クロマトグラフィーにおいて、該一般式(I)もしくは(II)で表されるポリヒドロキシ化合物の1,2-ナフトキノンジアジド-5-(及び/又は-4-)スルホン酸エステルのジエステル成分及び完全エステル成分のパターンが、それぞれ全パターン面積の50%以上及び40%未満であることを特徴とするポジ型フオトレジスト組成物。【化1】

Claim (excerpt)：

アルカリ可溶性樹脂及び下記一般式(I)もしくは(II)で表されるポリヒドロキシ化合物の1,2-ナフトキノンジアジド-5-(及び/又は-4-)スルホン酸エステルを含有し、且つ、254nmの紫外線を用いて測定した高速液体クロマトグラフィーにおいて、該一般式(I)もしくは(II)で表されるポリヒドロキシ化合物の1,2-ナフトキノンジアジド-5-(及び/又は-4-)スルホン酸エステルのジエステル成分及び完全エステル成分のパターンが、それぞれ全パターン面積の50%以上及び40%未満であることを特徴とするポジ型フオトレジスト組成物。【化1】ここで、R1〜R11:同一でも異なっても良く、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基もしくはシクロアルキル基を表す。但し、少なくとも1つはシクロアルキル基、R12〜R22:同一でも異なっても良く、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基もしくはシクロアルキル基を表す。但し、少なくとも1つはシクロアルキル基、を表す。

IPC (3)：

G03F 7/022 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027