Pat
J-GLOBAL ID:200903065877637085
膜形成用組成物および絶縁膜形成用材料
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
白井 重隆
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000138310
Publication number (International publication number):2001316622
Application date: May. 11, 2000
Publication date: Nov. 16, 2001
Summary:
【要約】【課題】 保存安定性に優れるとともに、得られる塗膜が耐熱性、電気絶縁性(比誘電率2.5以下)、クラック耐性、密着性に優れた絶縁膜形成用の膜形成用組成物を得る。【解決手段】 (A)(A-1)加水分解性オルガノシリル基を有する、ポリアミドおよびポリイミドもしくはいずれか一方、または(A-2)テトラカルボン酸二無水物と1分子中にアミノ基を3以上有するポリアミンを含むアミン化合物とを反応させて得られる、ポリアミック酸およびポリイミドもしくはいずれか一方、(B)(B-1)R1 a Si(OR2 )4-a で表される化合物および(B-2)R3 b (R4 O)3-b Si-(R7 )d -Si(OR5 )3-c R6 c で表される化合物の群から選ばれた少なくとも1種のシラン化合物の、加水分解物および縮合物もしくはいずれか一方、ならびに(C)有機ポリマーを含有する膜形成用組成物。
Claim (excerpt):
(A)(A-1)加水分解性オルガノシリル基を有する、ポリアミック酸およびポリイミドもしくはいずれか一方、または(A-2)テトラカルボン酸二無水物と1分子中にアミノ基を3以上有するポリアミンを含むアミン化合物とを反応させて得られる、ポリアミック酸およびポリイミドもしくはいずれか一方、(B)(B-1)下記一般式(1)で表される化合物、およびR1 a Si(OR2 )4-a ・・・・・(1)(R1 は水素原子、フッ素原子または1価の有機基を示し、R2 は1価の有機基を示し、aは0〜2の整数を表す。)(B-2)下記一般式(2) で表される化合物 R3 b (R4 O)3-b Si-(R7 )d -Si(OR5 )3-c R6 c ・・・・・(2)(R3 ,R4 ,R5 およびR6 は、同一でも異なっていてもよく、それぞれ1価の有機基を示し、bおよびcは、同一でも異なっていてもよく、0〜2の数を示し、R7 は酸素原子または-(CH2 )n -で表される基を示し、nは1〜6を、dは0または1を示す。)の群から選ばれた少なくとも1種のシラン化合物の、加水分解物および縮合物もしくはいずれか一方、ならびに(C)ポリエーテル、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアンハイドライドおよびポリ(メタ)アクリレートの群から選ばれた少なくとも1種の有機ポリマーを含有することを特徴とする膜形成用組成物。
IPC (9):
C09D179/08
, C09D133/00
, C09D167/00
, C09D169/00
, C09D171/00
, C09D183/02
, C09D183/04
, C09D183/14
, H01L 21/312
FI (9):
C09D179/08 Z
, C09D133/00
, C09D167/00
, C09D169/00
, C09D171/00
, C09D183/02
, C09D183/04
, C09D183/14
, H01L 21/312 C
F-Term (65):
4J038CG142
, 4J038DD042
, 4J038DE022
, 4J038DF012
, 4J038DJ031
, 4J038DJ032
, 4J038DL021
, 4J038DL022
, 4J038DL031
, 4J038DL032
, 4J038DL041
, 4J038DL042
, 4J038DL071
, 4J038DL072
, 4J038DL161
, 4J038DL162
, 4J038GA03
, 4J038GA06
, 4J038GA09
, 4J038GA15
, 4J038HA096
, 4J038HA176
, 4J038HA186
, 4J038HA216
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, 4J038HA376
, 4J038HA416
, 4J038JA33
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, 4J038JB27
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, 4J038JC13
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, 5F058AH02
, 5F058AH03
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