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J-GLOBAL ID：200903065883235959

プラズマエッチングシステム及びプラズマエッチング方法

Inventor： 富田 一石 ,  伊東 儀一 ,  平野 基博 ,  野沢 光 ,  松尾 浩光 ,  飯室 俊一 ,  戸澤 茂樹 ,  三浦 豊
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所 ,  日立東京エレクトロニクス株式会社 ,  東京エレクトロン山梨株式会社
Agent (1)： 鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993254255
Publication number (International publication number)：1995007001
Application date： Oct. 12, 1993
Publication date： Jan. 10, 1995
Summary：

【要約】【目的】 長時間の使用においてもシャワー電極のガス噴出孔にポリマーが付着しないプラズマエッチングシステム及びプラズマエッチング方法を提供する。【構成】 プラズマを閉じ込める容器と、この容器内を排気する手段と、基板を保持するチャック電極と、このチャック電極に向き合う多数の細孔を有するシャワー電極と、このシャワー電極および前記チャック電極の間にプラズマ電圧を印加する電源と、前記シャワー電極の細孔に連通し、細孔を介して前記容器内にプラズマ生成用のガスを供給する手段と、前記細孔を通過する前記ガスが質量流量で620kg/m2 /時間以上となるように前記ガス供給手段を制御する手段とを有する。

Claim (excerpt)：

プラズマを閉じ込める容器と、この容器内を排気する手段と、基板を保持するチャック電極と、このチャック電極に向き合う多数の細孔を有するシャワー電極と、このシャワー電極および前記チャック電極の間にプラズマ電圧を印加する電源と、前記シャワー電極の細孔に連通し、細孔を介して前記容器内にプラズマ生成用のガスを供給する手段と、前記細孔を通過する前記ガスが質量流量で620kg/m2 /時間以上となるように前記ガス供給手段を制御する手段と、を有することを特徴とするプラズマエッチングシステム。

IPC (2)：

H01L 21/3065 ,  C23F 4/00