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J-GLOBAL ID：200903065916002165

電界電離型イオン源

Inventor： 間所 祐一 ,  梅村 馨 ,  横川 賢悦
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994102435
Publication number (International publication number)：1995312190
Application date： May. 17, 1994
Publication date： Nov. 28, 1995
Summary：

【要約】【構成】強電界を生じるエミッタ1と、これと独立したイオン源3並びにこのイオン源3から放出された正イオンをガスとの電荷交換により中性化し中性粒子ビーム7を供給する機構、または、エミッタ1に負イオンを供給する機構から構成される。【効果】電界電離型イオン源の放射角電流密度を数倍に向上させ、これにより、細束化したイオンビームの電流密度を数倍に向上させる。これにより微細集束イオンビームによる高速微細加工を実現する。または、イオン投影露光の解像度、スループットが数倍に向上する。

Claim (excerpt)：

イオン化物質分子を、中性粒子ビーム、または、負イオンビームとして供給する事を特徴とする電界電離型イオン源。

IPC (3)：

H01J 37/08 ,  H01J 27/26 ,  H01J 37/305