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J-GLOBAL ID:200903065954867099
プラズマCVD及びエッチング用陽極酸化アルミニウム電極
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
石井 光正
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995146729
Publication number (International publication number):1996319573
Application date: May. 22, 1995
Publication date: Dec. 03, 1996
Summary:
【要約】 (修正有)【目的】 アルミニウム合金の介在物の存在による電極の破壊を生じず、かつ、コストアップを招かずに、プラズマ発生用電極の製品寿命のバラツキをなくす。【構成】 電極素材を構成するアルミニウム合金のプラズマ接触面に、気相成長により純アルミニウムが所定の膜厚だけ析出され、さらに全体を陽極酸化処理して皮膜が形成されている。
Claim (excerpt):
プラズマ入射面の陽極酸化膜が、気相成長された純アルミニウム層で構成されていることを特徴とするプラズマCVD及びエッチング用陽極酸化アルミニウム電極。
IPC (8):
C23C 16/50
, C23C 14/14
, C23F 4/00
, C25D 11/04
, H01L 21/205
, H01L 21/3065
, H01L 21/31
, H05H 1/46
FI (8):
C23C 16/50
, C23C 14/14 B
, C23F 4/00 Z
, C25D 11/04 E
, H01L 21/205
, H01L 21/31 C
, H05H 1/46 A
, H01L 21/302 B
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