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J-GLOBAL ID：200903065955113349

ポジ型レジスト組成物

Inventor： 児玉 邦彦 ,  佐藤 健一郎 ,  青合 利明
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999328589
Publication number (International publication number)：2001147524
Application date： Nov. 18, 1999
Publication date： May. 29, 2001
Summary：

【要約】【課題】 遠紫外光、とくにArFエキシマレーザー光を使用するミクロフォトファブリケ-ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、具体的には、感度及び解像力に優れ、現像の際の現像欠陥発生の問題が解消され、疎密依存性が少なく優れたレジストパターンが得られるポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】 活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定構造の光酸発生剤、主鎖に脂環式環を有する特定の構造の繰り返し構造単位を有し、かつ酸の作用により分解する基を有する重合体、及びフッ素系及び/又はシリコン系界面活性剤を含有するポジ型レジスト組成物。

Claim (excerpt)：

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する下記一般式(I)及び(II)で表される化合物から選択される少なくとも1種の光酸発生剤、(B)下記一般式(Ia)及び一般式(Ib)で表される繰り返し構造単位のうち少なくともいずれかと下記一般式(II')で表される繰り返し構造単位とを有し、かつ酸の作用により分解する基を有する重合体、並びに(C)フッ素系及び/又はシリコン系界面活性剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】上記一般式(I)〜(II)中:X-は、RFSO3-を表す。ここでRFは、炭素数2以上のフッ素置換された直鎖状、分岐状あるいは環状アルキル基である。【化2】式(Ia)中:R1、R2は、各々独立に、水素原子、シアノ基、水酸基、-COOH、-COOR5、-CO-NH-R6、-CO-NH-SO2-R6、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルコキシ基あるいは置換されていてもよい環状炭化水素基、又は下記-Y基を表す。Xは、酸素原子、硫黄原子、-NH-、-NHSO2-又は-NHSO2NH-を表す。ここで、R5は、置換基を有していてもよいアルキル基、置換されていてもよい環状炭化水素基又は下記-Y基を表す。R6は、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換されていてもよい環状炭化水素基を表す。Aは単結合又は2価の連結基を表す。-Y基;【化3】(-Y基中、R21〜R30は、各々独立に、水素原子又は置換基を有していてもよいアルキル基を表す。a,bは1又は2を表す。)式(Ib)中:Z2は、-O-又は-N(R3)-を表す。ここで、R3は、水素原子、水酸基又は-OSO2-R4を表す。R4は、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基又は樟脳残基を表す。式(II')中:R11、R12は、各々独立に、水素原子、シアノ基、ハロゲン原子、又は置換基を有していてもよいアルキル基を表す。Zは、結合した2つの炭素原子(C-C)を含み、置換基を有していてもよい脂環式構造を形成するための原子団を表す。

IPC (3)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (16)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BF03 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CC04 ,  2H025FA29