Pat

J-GLOBAL ID：200903066007249663

パターン検査装置

Inventor： 西垣 寿 ,  西村 慎祐 ,  法西 弘明 ,  木下 秀俊 ,  福留 裕二
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994098592
Publication number (International publication number)：1995306028
Application date： May. 12, 1994
Publication date： Nov. 21, 1995
Summary：

【要約】【目的】本発明は、電子ビーム径を可変することによって検査パターンの大きさに応じたパターン欠陥検査を高精度に行う。【構成】電子銃(2) から照射された電子ビームを任意のビーム形状に成形して後に、各縮小レンズ(5,6) により集束し、さらに軸ずれの補正をして各対物レンズ(9,10)により集束して試料(12)面上に結像し、このときに各縮小レンズ(5,6) 及び各対物レンズ(9,10)の焦点距離を制御する。

Claim (excerpt)：

電子銃から照射された電子ビームを試料面上に走査し、このとき得られる二次電子又は反射電子を検出して前記試料におけるパターン欠陥の有無を検査するパターン検査装置において、前記試料面上に照射される前記電子ビーム径を制御して結像させるビーム径制御手段を備えたことを特徴とするパターン検査装置。

IPC (2)：

G01B 15/00 ,  H01L 21/66