低次酸化チタン含有顔料の製造方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：岩橋祐司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993325910
Publication number (International publication number)：1994211521
Application date： Nov. 30, 1993
Publication date： Aug. 02, 1994
Summary：

【要約】【構成】二酸化チタンと共に、還元剤として硅素、水素化チタン、水素化カルシウム、炭素の中から選ばれる一種又は二種以上を共存させ、低酸素濃度雰囲気下で還元焼成することを特徴とする低次酸化チタン含有顔料の製造方法。【効果】効率よく、しかも還元剤と粉末との溶融による凝集を生じることなく、低次酸化チタン含有顔料を製造することができる。

Claim (excerpt)：

二酸化チタンと共に、還元剤として硅素、水素化チタン、水素化カルシウム、炭素の中から選ばれる一種又は二種以上を共存させ、低酸素濃度雰囲気下で還元焼成することを特徴とする低次酸化チタン含有顔料の製造方法。

IPC (4)：

C01G 23/04 , C09C 1/36 PAT , C09C 1/36 PAV , C09C 1/40 PBB

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (20)

特開平1-290529
特公昭38-003101
特公平4-061032

特開昭60-264313

特公平4-061033

特開平1-072921

特開平1-072922

特表平7-504932

亜酸化チタンの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-180493 Applicant：東邦チタニウム株式会社

特開平4-349121

還元された酸化チタンの製造法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-247494 Applicant：インペリアル・ケミカル・インダストリーズ・ピーエルシー

特開平1-290529

特公昭38-003101

特公平4-061032