Al合金スパッタ用ターゲットおよびその製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：石井陽一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994087869
Publication number (International publication number)：1995268617
Application date： Mar. 31, 1994
Publication date： Oct. 17, 1995
Summary：

【要約】【目的】膜中の合金組成が均一で特性のバラツキが少なく、合金構成成分の含有率が高いため金属反射層等の熱伝導率が低下した金属膜の成膜に用いることができ、ボンディング工程での汚染がなく、スパッタレートが向上し、加工性が改善されて加工取りしろが少ないAl合金スパッタ用ターゲットとその製造方法とを提供する【構成】 Al-M合金(ただしMは、Mg、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Fe、Co、Ni、CuおよびZnのうちの1種以上)から形成され、鏡面加工をして走査型電子顕微鏡観察を行ったとき、平均粒径5μm 以下の前記Mリッチの微細粒を含有するグレインをもち、ターゲット部と、その後方に一体的に連続し、それより幅広のバッキングプレート部を有する。

Claim (excerpt)：

Al-M合金(ただしMは、Mg、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Fe、Co、Ni、CuおよびZnのうちの1種以上である)から形成されており、鏡面加工をして走査型電子顕微鏡観察を行ったとき、平均粒径5μm 以下の前記Mリッチの微細粒を含有するグレインをもち、ターゲット部と、その後方に一体的に連続し、それより幅広のバッキングプレート部を有するAl合金スパッタ用ターゲット。

IPC (5)：

C23C 14/34 , C22C 1/04 , G11B 7/26 531 , G11B 11/10 523 , G11B 11/10 541

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (11)

特開平4-099171
特開平4-099171
特開平4-099171

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