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J-GLOBAL ID：200903066068269268

埋め込み型高分子光導波路及びその製造方法

Inventor： 栗原 隆 ,  都丸 暁 ,  小澤口 治樹 ,  疋田 真 ,  首藤 義人 ,  林田 尚一 ,  天野 道之 ,  碓氷 光男
Applicant, Patent owner： 日本電信電話株式会社
Agent (1)： 光石 俊郎 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992225493
Publication number (International publication number)：1994067230
Application date： Aug. 25, 1992
Publication date： Mar. 11, 1994
Summary：

【要約】【目的】 光非線形導波素子特有の光学的要求条件及び構造的要求条件を満たす光導波路及びその製造方法を提供する。【構成】 下層クラッド11a及び側方クラッド11bからなるクラッド基板11にコア埋め込み用溝12を予め形成しておき、アゾ基、イミノ基あるいはビニル基などのπ共役二重結合を合計2個以上有する色素が結合した光非線形高分子材料13を加熱注入してコア13Aを形成し、さらに上層クラッド14を形成する。

Claim (excerpt)：

アゾ基、イミノ基あるいはビニル基などのπ共役二重結合を合計2個以上有する色素が結合した光非線形高分子材料からなるコア部と、該コア部よりも屈折率の低いクラッド部とを具備し、上記コア部が上記クラッド部に形成された溝内に埋め込まれていることを特徴とする埋め込み型高分子光導波路。

IPC (2)：

G02F 1/35 504 ,  G02B 6/12