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J-GLOBAL ID：200903066081123477

光アニール方法及び装置

Inventor： 日野 威 ,  佐藤 幸人 ,  大高 剛一
Applicant, Patent owner： 株式会社リコー ,  リコー応用電子研究所株式会社
Agent (1)： 柏木 明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992120363
Publication number (International publication number)：1993315278
Application date： May. 13, 1992
Publication date： Nov. 26, 1993
Summary：

【要約】【目的】 互いに偏光方向が直交する複数のビームをビーム径と略同一ピッチで直線状に配列し、このような直線配置の二つのビームを半ピッチにオーバラップさせて試料に照射する光アニール方法において、試料に対するビームの入射方向が配列方向や配列方向と直交する方向などに傾斜しても光アニールが均質に行なわれるようにする。【構成】 直線配置の二つのビーム48,49の配列方向と偏光方向とを45度で交差させ、試料に対する入射方向が傾斜しても二つのビーム48,49の反射率が同一に変化するようにする。

Claim (excerpt)：

強度分布がガウス型で互いに偏光方向が直交する複数のビームを第一・第二の光出射装置がビーム径と略同一ピッチの直線状の配列で出射し、これら第一・第二の光出射装置から出射されたビームをビームコンバイナーが配列方向でビーム径の半ピッチにオーバラップさせて試料に照射するようにした光アニール方法において、前記第一・第二の光出射装置のビームの配列方向と偏光方向とが45度で交差するようにしたことを特徴とする光アニール方法。

IPC (2)：

H01L 21/268 ,  H01L 21/324