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J-GLOBAL ID：200903066113305602
フォトマスク用ブランクス及びフォトマスク
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999038202
Publication number (International publication number)：2000235253
Application date： Feb. 17, 1999
Publication date： Aug. 29, 2000
Summary：
【要約】【課題】高加速電圧の電子ビーム描画機を用いて電子ビーム描画する際レジストコートしたブランクス上で電荷のチャージアップをおこさないフォトマスク用ブランクス及びパターン位置精度の優れたフォトマスクを提供することを目的とする。【解決手段】成膜用基板ホルダーに透明基板をセットし、スパッター又は蒸着にて透明基板上にクロムまたは酸化クロム膜を下方から成膜して成膜部及び非成膜部を有する従来のフォトマスク用ブランクスを作製し、追加成膜用基板ホルダーを用いて上記従来のフォトマスク用ブランクスの非成膜部にスパッター又は蒸着にて透明導電性薄膜を追加成膜して追加成膜部22を有する本発明のフォトマスク用ブランクス20を作製する。さらに、高加速電圧の電子ビーム描画機で電子ビーム描画し、現像等のパターニング処理を施してフォトマスクを作製する。
Claim (excerpt)：
透明基板上にクロムまたは酸化クロム膜からなる成膜部及び前記透明基板の四角に非成膜部を有するフォトマスク用ブランクスにおいて、前記フォトマスク用ブランクスの前記非成膜部に導電性薄膜を追加成膜することを特徴とするフォトマスク用ブランクス。
IPC (2)：
FI (2)：
G03F 1/14 G
, H01L 21/30 502 P
Cited by applicant (1)
Cited by examiner (1)
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