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J-GLOBAL ID:200903066120054801
膜形成用組成物、膜の形成方法および有機膜
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001192322
Publication number (International publication number):2003003047
Application date: Jun. 26, 2001
Publication date: Jan. 08, 2003
Summary:
【要約】【課題】 半導体素子などにおける層間絶縁膜材料として、2.5以下の比誘電率を示し、かつ塗膜弾性率、低吸湿性及び耐クラック性に優れる塗膜が得られる膜形成用組成物を得る。【解決手段】 (A)芳香族ポリアリーレンおよび芳香族ポリアリーレンエーテルもしくはいずれか一方、(B)有機溶剤ならびに(C)フラーレンおよびカーボンナノチューブもしくはいずれか一方を含有することを特徴とする膜形成用組成物。
Claim (excerpt):
(A)芳香族ポリアリーレンおよび芳香族ポリアリーレンエーテルもしくはいずれか一方、(B)有機溶剤ならびに(C)フラーレンおよびカーボンナノチューブもしくはいずれか一方を含有することを特徴とする膜形成用組成物。
IPC (6):
C08L 65/00
, C08J 5/18 CEZ
, C08K 3/04
, C08K 5/00
, C08L 71/12
, H01L 21/312
FI (6):
C08L 65/00
, C08J 5/18 CEZ
, C08K 3/04
, C08K 5/00
, C08L 71/12
, H01L 21/312 A
F-Term (29):
4F071AA69
, 4F071AA69X
, 4F071AB03
, 4F071AC07
, 4F071AC12
, 4F071AE16
, 4F071AE19
, 4F071AE22
, 4F071AF04
, 4F071AF20
, 4F071AF36
, 4F071AF40
, 4F071AH12
, 4F071AH13
, 4F071BA02
, 4F071BB02
, 4F071BC02
, 4J002CE001
, 4J002CH071
, 4J002DA016
, 4J002DA036
, 4J002FD106
, 4J002FD206
, 4J002HA05
, 4J002HA08
, 5F058AA04
, 5F058AB10
, 5F058AF04
, 5F058AH02
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