フォトソルダーレジスト組成物

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991348997
Publication number (International publication number)：1993158240
Application date： Dec. 06, 1991
Publication date： Jun. 25, 1993
Summary：

【要約】【目的】銅に対する密着性が高く、耐久性に優れたフォトソルダーレジスト組成物を得ることを目的とする。【構成】(A)カルボキシル基および(または)スルホン酸基を有する光重合性樹脂、(B)光重合開始剤および(または)光重合促進剤、(C)エポキシ基を少なくとも1個有する化合物、(D)チオール基を2個以上有する複素環状化合物、を必須成分とするフォトソルダーレジスト組成物。【効果】弱アルカリ水溶液による現像の後に優れた耐熱性、耐薬品性、耐水性、耐湿性、耐溶剤性及び電気絶縁性を発現するフォトソルダーレジスト組成物が得られた。

Claim (excerpt)：

(A)カルボキシル基および(または)スルホン酸基を有する光重合性樹脂、(B)光重合開始剤および(または)光重合促進剤、(C)エポキシ基を少なくとも1個有する化合物、(D)チオール基を2個以上有する複素環状化合物、を必須成分とするフォトソルダーレジスト組成物。

IPC (7)：

G03F 7/038 505 , G03F 7/027 , G03F 7/031 , G03F 7/032 501 , G03F 7/085 , H05K 3/06 , H05K 3/28

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

特開平3-253092
特開平2-308163
特開昭63-011930

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