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J-GLOBAL ID：200903066135500417

キラルポリマーの製造方法及びこれにより得られたキラルポリマー

Inventor：
後藤 博正

About 後藤 博正

, 
赤木 和夫

About 赤木 和夫


Applicant, Patent owner：
国立大学法人 筑波大学

About 国立大学法人 筑波大学


Agent (4)： 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  西元 勝一 ,  福田 浩志
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004322364
Publication number (International publication number)：2006131758
Application date： Nov. 05, 2004
Publication date： May. 25, 2006
Summary：
【課題】 キラルなモノマーやキラル触媒を用いることなく、アキラルモノマーから安定なキラルポリマーを簡便に得る。【解決手段】 キラル触媒を用いることなく、キラルネマティック液晶相を溶媒として使用し、この液晶相が維持される温度下で、0価のパラジウム触媒を使用して、アキラルモノマーの重縮合を行って、例えば嵩高い置換基を有し且つチオフェン、フェニルなどを構造単位とするキラルポリマーを得る。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
キラル触媒及びキラルモノマーを用いることなく、液晶相が維持される温度でキラルネマティック液晶を溶媒として用いてアキラルモノマーを重合し、キラルポリマーを得ることを特徴とするキラルポリマーの製造方法。
IPC (1)：
C08G 61/00
FI (1)：
C08G61/00
F-Term (12)：
4J032BA03 ,  4J032BA05 ,  4J032BA08 ,  4J032BA13 ,  4J032BB06 ,  4J032BC03 ,  4J032CA04 ,  4J032CB03 ,  4J032CC01 ,  4J032CD02 ,  4J032CE03 ,  4J032CE17
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (5)
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Cited by examiner (5)
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Article cited by the Patent：
Cited by applicant (2) Cited by examiner (2)

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