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J-GLOBAL ID:200903066144949940

面内分布測定方法及び装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 鵜沼 辰之
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993043946
Publication number (International publication number):1994258259
Application date: Mar. 04, 1993
Publication date: Sep. 16, 1994
Summary:
【要約】【目的】 電磁波の照射領域よりも遥かに小さい領域の分解能で、試料に関する物理量の面内分布を非破壊で測定する手法及び装置を提供する。【構成】 電磁波発生源1から出射された電磁波3は、スリット2により成型された後、試料4に視斜角θで入射する。試料により反射された電磁波を一次元位置感応型の電磁波検出器9により測定する。測定した電磁波5の強度或は波長から適宜な解析処理により、一次元位置感応型検出器の一素子に入射した電磁波5に対応する試料上の領域の平均した物理量が得られる。次に試料の注目している面の法線方向を中心軸として所定角度試料を回転させ、同様な測定から試料の物理量が得られる。これを試料の回転が180度になるまで繰り返す。これらの一連の測定から、コンピュータートモグラフィーのアルゴリズムにより該物理量の面内分布が得られる。
Claim (excerpt):
相互の位置関係が特定されている多数の方向から電磁波を試料に対して入射すること、前記多数の入射電磁波に対応して前記試料から反射した多数の反射電磁波を検出手段により一連に測定すること、前記検出手段により検出された多数の反射電磁波及び前記入射電磁波の相互位置関係に基づいてデータ演算解析処理により前記電磁波の照射領域より小さい領域に対応する試料の物理量を求め、且つ試料の被測定領域全面にわたって前記小領域毎に前記物理量を求めることにより該物理量の試料の面内分布を得ることを特徴とする面内分布測定方法。
IPC (2):
G01N 23/20 ,  G21K 1/06
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
  • 特公平3-022582
  • 特開昭64-006850
  • 特公平1-036061
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