高分子膜

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：杉村興作
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2001581367
Publication number (International publication number)：2003532756
Application date： Apr. 27, 2001
Publication date： Nov. 05, 2003
Summary：

【要約】本発明は、下記の物質:SO3H基、PO3H2基、COOH基、又はB(OH)2基を含む高分子酸;第1級、第2級又は第3級アミノ基、ピリジン基、イミダゾ-ル基、ベンズイミダゾール基、トリアゾール基、ベンゾトリアゾール基、ピラゾール基、又はベンゾピラゾール基を側鎖又は主鎖に含む(任意の)高分子塩基;前記塩基性基を含む(任意の)付加高分子塩基;有機元素及び/又は有機金属の化合物を膜形成過程中に加水分解及び/又はゾル-ゲル反応させることにより、及び/又は酸性、アルカリ性、又は中性の電解水溶液中で該膜を後処理することにより得た、元素又は金属の酸化物又は水酸化物を有する、新規の有機/無機ハイブリッド膜に関する。本発明はまた、前記膜の製造方法、及び種々の用途に使用される該膜に関するものである。

Claim (excerpt)：

少なくとも1種の高分子酸を含む膜において、膜形成過程前、その最中又はその後に、該膜に塩、金属酸化物若しくは金属水酸化物又はこれらの有機前駆体を取り込んでなることを特徴とする膜。

IPC (14)：

C08J 5/18 CER , B01D 61/42 , B01D 69/10 , B01D 69/12 , B01D 71/68 , C08J 7/00 CEZ , C08K 3/22 , C08K 5/057 , C08K 5/098 , C08K 5/17 , C08L101/00 , H01M 8/02 , H01M 8/10 , H01M 10/40

FI (14)：

C08J 5/18 CER , B01D 61/42 , B01D 69/10 , B01D 69/12 , B01D 71/68 , C08J 7/00 CEZ A , C08K 3/22 , C08K 5/057 , C08K 5/098 , C08K 5/17 , C08L101/00 , H01M 8/02 P , H01M 8/10 , H01M 10/40 B

F-Term (48)：

4D006GA03 , 4D006GA13 , 4D006GA18 , 4D006GA23 , 4D006GA25 , 4D006GA41 , 4D006MA03 , 4D006MA06 , 4D006MA09 , 4D006MC44X , 4D006MC47X , 4D006MC62X , 4D006MC63X , 4D006NA10 , 4D006NA45 , 4D006NA54 , 4D006NA63 , 4D006PC80 , 4F071AA51 , 4F071AA62 , 4F071AA64 , 4F071AB17 , 4F071AC09 , 4F071AH12 , 4F071BA02 , 4F071BB02 , 4F071BC01 , 4F073AA04 , 4F073BA27 , 4F073BA32 , 4F073BB01 , 4F073EA01 , 4F073EA31 , 4J002CH091 , 4J002CN011 , 4J002CN031 , 4J002DE096 , 4J002DE136 , 4J002DE146 , 4J002EC076 , 4J002EG016 , 4J002EN006 , 4J002GQ00 , 5H026AA08 , 5H026CX05 , 5H026EE18 , 5H026HH08 , 5H029AM16

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