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J-GLOBAL ID：200903066157388785

レジスト組成物

Inventor： 尾家 正行 ,  田中 秀行 ,  阿部 信紀
Applicant, Patent owner： 日本ゼオン株式会社
Agent (1)： 西川 繁明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991301054
Publication number (International publication number)：1993113666
Application date： Oct. 21, 1991
Publication date： May. 07, 1993
Summary：

【要約】【目的】 感度、解像性および保存安定性などのレジスト特性に優れており、特に、波長の短い遠紫外線やKrFエキシマレーザー光を用いるリソグラフィーに適しているとともに、露光後の感度の安定性に優れたレジスト材料を提供すること。【構成】 (A)アルカリ可溶性フェノール樹脂、(B)活性光線の照射により酸を生成可能な化合物、(C)前記化合物(B)から生成した酸の存在下でアルカリ可溶性フェノール樹脂を架橋可能な化合物、および(D)常圧での沸点が170°C以上であるアルコール化合物を含有するレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

(A)アルカリ可溶性フェノール樹脂、(B)活性光線の照射により酸を生成可能な化合物、(C)前記化合物(B)から生成した酸の存在下でアルカリ可溶性フェノール樹脂を架橋可能な化合物、および(D)常圧での沸点が170°C以上であるアルコール化合物を含有することを特徴とするレジスト組成物。

IPC (6)：

G03F 7/038 505 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/023 ,  G03F 7/029 ,  H01L 21/027