Pat
J-GLOBAL ID:200903066192197755
近赤外線吸収フィルム
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2007018796
Publication number (International publication number):2007233368
Application date: Jan. 30, 2007
Publication date: Sep. 13, 2007
Summary:
【課題】近赤外領域を大きく、かつ幅広く吸収するとともに、耐久性、特に耐湿熱性や耐熱性に高度に優れる近赤外線吸収フィルムを提供する。【解決手段】透明基材上に、近赤外線吸収色素、樹脂から主に構成される組成物からなる近赤外線吸収層を設けた近赤外線吸収フィルムであって、前記の組成物中にトリフルオロメタンスルホン酸化合物またはビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド酸化合物のいずれかを含有することを特徴とする近赤外線吸収フィルム。【選択図】なし
Claim (excerpt):
透明基材上に、近赤外線吸収色素、樹脂から主に構成される組成物からなる近赤外線吸収層を設けた近赤外線吸収フィルムであって、前記の組成物中にトリフルオロメタンスルホン酸化合物またはビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド酸化合物のいずれかを含有することを特徴とする近赤外線吸収フィルム。
IPC (4):
G02B 5/22
, C09B 53/00
, C09B 57/10
, B32B 27/18
FI (4):
G02B5/22
, C09B53/00 Z
, C09B57/10
, B32B27/18 A
F-Term (15):
2H048CA04
, 2H048CA12
, 2H048CA19
, 4F100AK01B
, 4F100AK25B
, 4F100AK42A
, 4F100AT00A
, 4F100CA07A
, 4F100CA07B
, 4F100CA13B
, 4F100EH46B
, 4F100EJ38A
, 4F100JD10B
, 4F100JD10K
, 4F100JN01A
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (9)
-
特開2002- 82219号公報
-
近赤外線遮蔽用樹脂組成物および近赤外線遮蔽用積層体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-335034
Applicant:住友大阪セメント株式会社
-
NIR吸収性組成物、吸収フィルム、該組成物の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-113152
Applicant:日立化成工業株式会社
-
近赤外線カット材料及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-071747
Applicant:日清紡績株式会社
-
近赤外線吸収フィルター
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-003752
Applicant:東洋紡績株式会社
-
電子ディスプレイ用フィルター及び該フィルターを用いた電子ディスプレイ装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-138101
Applicant:三菱化学株式会社
-
特開2003- 82302号公報
-
特開2003- 96040号公報
-
近赤外線吸収フィルム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-308849
Applicant:株式会社ブリヂストン
Show all
Cited by examiner (3)
Return to Previous Page