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J-GLOBAL ID：200903066223817226
処理装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
,
Agent (1)：
中本 菊彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991351192
Publication number (International publication number)：1993166715
Application date： Dec. 13, 1991
Publication date： Jul. 02, 1993
Summary：
【要約】【目的】不使用時の処理液供給ノズルに付着する処理液を待機中に洗浄し、被処理体への処理液の均一被着と被処理体の汚染防止を図る。【構成】不使用時の処理液供給ノズル21を保持する待機手段23に、処理液供給ノズル21のノズル孔22を開口部32に位置させて保持するノズル保持体31と、ノズル保持体31の開口部側に配設される液体受部34とを具備する。液体受部34をノズル孔先端部を包囲し得る断面U字状溝37を有する樋状体にて形成する。この液体受部34内に洗浄液又は処理液を供給し、溢流させることにより、ノズル孔先端部に付着する処理液を洗浄除去する。
Claim (excerpt)：
被処理体の表面に処理液を滴下する多数のノズル孔を配列する処理液供給ノズルと、不使用時の上記処理液供給ノズルを保持する待機手段とを具備する処理装置において、上記待機手段は、上記ノズル孔の先端部を包囲し得るように配設される樋状の液体受部を具備し、上記液体受部内に洗浄液又は処理液を溢流して上記ノズル孔先端部を洗浄することを特徴とする処理装置。
IPC (4)：
H01L 21/027
, B05B 15/02
, B08B 3/02
, H01L 21/304 341
