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J-GLOBAL ID：200903066248913483

光学要素構成材

Inventor： 谷野 吉弥 ,  阿久根 安博 ,  大西 誠次
Applicant, Patent owner： 日本ピラー工業株式会社
Agent (1)： 杉本 丈夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995230982
Publication number (International publication number)：1997080202
Application date： Sep. 08, 1995
Publication date： Mar. 28, 1997
Summary：

【要約】【課題】SOR光,レーザ光,X線等の高エネルギビームの照射によっては破損しないレーザ反射鏡等の構成材を提供する。【解決手段】 炭化珪素又はカーボンで構成される基体の表面に炭化珪素膜を化学蒸着により被覆形成してなる複合材である。基体は93%以上の高密度焼結体である。炭化珪素膜は、そのスペクトル吸収端が550nm以下のものである。

Claim (excerpt)：

炭化珪素又はカーボンで構成される基体の表面に炭化珪素膜を化学蒸着により被覆形成してなる複合材であって、基体が93%以上の高密度体であり、炭化珪素膜がスペクトル吸収端550nm以下のものであることを特徴とする光学要素構成材。

IPC (3)：

G02B 1/10 ,  C23C 16/42 ,  C30B 25/06

FI (3)：

G02B 1/10 Z ,  C23C 16/42 ,  C30B 25/06

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 放射光・X線反射用SiCミラーの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-071626   Applicant：東芝セラミックス株式会社
• 複合材
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-147669   Applicant：日本ピラー工業株式会社
• 新規な光透過性の自立β-SiCとその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-283398   Applicant：シーブイディー,インコーポレイティド