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J-GLOBAL ID：200903066249271990

レジスト組成物

Inventor： 山口 訓史 ,  橋本 和彦 ,  宮 芳子
Applicant, Patent owner： 住友化学工業株式会社
Agent (1)： 久保山 隆 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001100629
Publication number (International publication number)：2002296781
Application date： Mar. 30, 2001
Publication date： Oct. 09, 2002
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】KrF露光で高い解像性と良好なプロファイルを有し、特に170nm以下の波長の光に対する透過率に優れ、F2エキシマレーザーリソグラフィに適したポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】樹脂及び感放射線化合物を含有し、該樹脂が、放射線照射後の該感放射線化合物の作用によりアルカリ可溶性となるものであって、下式(I)、(II)および(III)で示される単位とを有するレジスト組成物。(R1は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数1〜3のアルキル基、又は炭素数1〜12のフルオロアルキル基)(R2、R3は、それぞれ独立に、炭素数1〜12のフルオロアルキル基を表し、R4は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数1〜3のアルキル基、又は炭素数1〜12のフルオロアルキル基)(R2、R3、R4は、式(II)中で表されるものと同一であり、R5は、酸により解裂する基)

Claim (excerpt)：

樹脂及び感放射線化合物を含有し、該樹脂が、放射線照射後の該感放射線化合物の作用により化学変化を起こしてアルカリ可溶性となるものであって、下式(I)で示される重合単位と下式(II)で示される重合単位と下式(III)で示される重合単位とを有することを特徴とするレジスト組成物。(式中、R1は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数1〜3のアルキル基、又は少なくとも1個のフッ素原子を有する炭素数1〜12のフルオロアルキル基を表す。)(式中、R2、R3は、それぞれ独立に、少なくとも1個のフッ素原子を有する炭素数1〜12のフルオロアルキル基を表し、R4は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数1〜3のアルキル基、又は少なくとも1個のフッ素原子を有する炭素数1〜12のフルオロアルキル基を表す。)(式中、R2、R3、R4は、式(II)中で表されるものと同一であり、R5は、酸により解裂する基を表す。)

IPC (5)：

G03F 7/039 601 ,  C08F212/14 ,  C08F220/70 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027

FI (5)：

G03F 7/039 601 ,  C08F212/14 ,  C08F220/70 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (29)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BF04 ,  2H025BF08 ,  2H025BF09 ,  2H025CB16 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4J100AB07Q ,  4J100AB07R ,  4J100AM02P ,  4J100AM03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA04R ,  4J100BB00P ,  4J100BB07P ,  4J100BB07Q ,  4J100CA05 ,  4J100JA38