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J-GLOBAL ID：200903066277751603

溶射温度可変型の高速溶射装置

Inventor： 尾崎 龍宏 ,  永吉 英昭 ,  古田 博昭
Applicant, Patent owner： 株式会社フジコー
Agent (1)： 中前 富士男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003209398
Publication number (International publication number)：2005068457
Application date： Aug. 28, 2003
Publication date： Mar. 17, 2005
Summary：

【課題】溶射原料の特性に応じた溶射条件に対応でき、良好な品質の溶射皮膜を形成可能な溶射温度可変型の高速溶射装置を提供する。【解決手段】酸素ガス11及び燃料12によって形成された高速の火炎13と共に、溶射原料14を対象物15に対して噴出して溶射皮膜を形成する噴出手段16を備えた高速溶射装置10において、噴出手段16の上流側には、所定の混合比率に調整された酸素ガス11及び空気17を予め混合して混合ガス18を製造する混合手段19が設けられ、酸素ガス11量に対する燃料12量又は燃料12量に対する酸素ガス11量を増減させて、火炎13の温度を変える。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

酸素ガス及び燃料によって形成された高速の火炎と共に、溶射原料を対象物に対して噴出して溶射皮膜を形成する噴出手段を備えた高速溶射装置において、 前記噴出手段の上流側には、所定の混合比率に調整された前記酸素ガス及び空気を予め混合して混合ガスを製造する混合手段が設けられ、 前記酸素ガス量に対する前記燃料量又は前記燃料量に対する前記酸素ガス量を増減させて、前記火炎の温度を変えることを特徴とする溶射温度可変型の高速溶射装置。

IPC (2)：

C23C4/12 ,  B05B7/20

FI (2)：

C23C4/12 ,  B05B7/20

F-Term (25)：

4F033QA01 ,  4F033QB02X ,  4F033QB12X ,  4F033QB19 ,  4F033QD02 ,  4F033QD13 ,  4F033QG05 ,  4F033QG11 ,  4F033QG20 ,  4K031AA01 ,  4K031AB08 ,  4K031CB14 ,  4K031CB18 ,  4K031CB21 ,  4K031CB22 ,  4K031CB30 ,  4K031CB37 ,  4K031CB38 ,  4K031CB39 ,  4K031CB42 ,  4K031CB45 ,  4K031CB51 ,  4K031DA01 ,  4K031EA10 ,  4K031EA12