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J-GLOBAL ID：200903066282004867

ガスハイドレートの生成制御剤およびそれを用いたガスハイドレートの生成制御方法

Inventor： 遠山 昌之 ,  大上 暢子 ,  西田 耕二
Applicant, Patent owner： 三菱レイヨン株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999349204
Publication number (International publication number)：2001164274
Application date： Dec. 08, 1999
Publication date： Jun. 19, 2001
Summary：

【要約】【課題】 ガスハイドレートの生成を阻害する働きと、ガスハイドレートを平衡論的および速度論的に安定化させる働きを併せ持つガスハイドレートの生成制御剤、およびガスハイドレートの生成制御方法を提供する。【解決手段】 式(1)で表されるビニル単量体を(共)重合して得られる高分子化合物を含んでなるガスハイドレートの生成制御剤。【化1】(ただし式中、R1、R2およびR3はそれぞれ独立に水素原子または炭素数1もしくは2のアルキル基を表わす。)

Claim (excerpt)：

式(1)で表されるビニル単量体を(共)重合して得られる高分子化合物を含んでなるガスハイドレートの生成制御剤。【化1】(ただし式中、R1、R2およびR3はそれぞれ独立に水素原子または炭素数1もしくは2のアルキル基を表わす。)

IPC (2)：

C10L 3/06 ,  C08F220/28

FI (2)：

C08F220/28 ,  C10L 3/00 A

F-Term (26)：

4J100AE03Q ,  4J100AE04Q ,  4J100AG02Q ,  4J100AG04Q ,  4J100AJ02Q ,  4J100AL03Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL09Q ,  4J100AL16P ,  4J100AM15Q ,  4J100AM17Q ,  4J100AM19Q ,  4J100AN04Q ,  4J100AQ06Q ,  4J100AQ08Q ,  4J100AQ15Q ,  4J100BA02P ,  4J100BA03P ,  4J100BA31Q ,  4J100BC53P ,  4J100BC53Q ,  4J100BC65Q ,  4J100BC79Q ,  4J100CA04 ,  4J100JA24