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J-GLOBAL ID：200903066331999608

ポジ型レジスト組成物

Inventor： 吉田 祐司 ,  枝松 邦茂 ,  尾崎 晴喜 ,  橋本 和彦
Applicant, Patent owner： 住友化学工業株式会社
Agent (1)： 久保山 隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993333798
Publication number (International publication number)：1995191461
Application date： Dec. 27, 1993
Publication date： Jul. 28, 1995
Summary：

【要約】【目的】 感度、解像度、耐熱性、プロファイル及び焦点深度等の諸性能のバランスに優れ、且つ現像残さのないポジ型レジスト組成物を提供する。【構成】 m-クレゾール、3,4-キシレノール及び一般式(I)【化1】(式中、R1 は低級アルキル基を、R2 は水素又は低級アルキル基を、各々表す。)で示されるフェノール類のフェノール混合物並びにアルデヒド類を縮合反応させて得られるノボラック樹脂と、キノンジアジド化合物と、分子量900 未満のアルカリ可溶性化合物とを含有するポジ型レジスト組成物。

Claim (excerpt)：

(A) m-クレゾール、3,4-キシレノール及び一般式(I)【化1】(式中、R1 は低級アルキル基を、R2 は水素原子又は低級アルキル基を、各々表わす。)で示されるフェノール類のフェノール類混合物並びにアルデヒド類を縮合反応させて得られるノボラック樹脂と、(B) 1,2-キノンジアジド化合物と、(C) 分子量900 未満のアルカリ可溶性化合物とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (3)：

G03F 7/023 511 ,  G03F 7/022 ,  H01L 21/027