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J-GLOBAL ID：200903066333946218
高分子系廃棄物からの活性炭製造設備
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
亀井 弘勝 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993041423
Publication number (International publication number)：1994271307
Application date： Mar. 02, 1993
Publication date： Sep. 27, 1994
Summary：
【要約】【目的】 高分子系廃棄物の乾留残渣から、より効率よく活性炭を製造できる活性炭製造設備を提供する。【構成】 乾留炉1の密閉された缶内で、缶内の高分子系廃棄物Pに着火して、特定の条件下で乾留反応させて油分を含む乾留ガスを発生させる。そして、乾留ガス発生後、缶内に残留する固形物残渣を賦活炉7で賦活させて活性炭Aを製造する。
Claim (excerpt)：
密閉された缶内に、高分子系廃棄物の燃焼に必要な空気量より極度に少ない空気を供給し、かつ缶胴を、発生した乾留ガスの着火温度以下に冷却しつつ、缶内の高分子系廃棄物に着火して乾留ガスを発生させる乾留炉と、乾留ガス発生後の固形物残渣から分離した炭化物を賦活させて活性炭化する賦活装置とを備えることを特徴とする高分子系廃棄物からの活性炭製造設備。
IPC (3)：
C01B 31/08
, B09B 3/00 303
, F23G 5/027 ZAB
Cited by examiner (6)
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