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J-GLOBAL ID：200903066356519708

マーク位置検出方法およびその方法を用いた電子ビーム描画装置

Inventor： 後藤 泰子 ,  奥村 正秀 ,  飯泉 謙 ,  大貫 和喜
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 薄田 利幸
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996042798
Publication number (International publication number)：1997237747
Application date： Feb. 29, 1996
Publication date： Sep. 09, 1997
Summary：

【要約】【課題】電子ビーム描画における合わせマーク位置の検出精度を向上させて、高精度の合わせ描画を可能にするマーク位置検出方法を提供すること。【解決手段】幅の広いマーク11の全面を複数の走査区間に分けて、偏向角の大きい偏向器1と偏向角の小さい偏向器2とを組み合わせ使用して、各走査区間を電子ビーム15で順々に走査して行きながら、マーク11からの反射電子量を検出してマーク信号を得る。その際、前の走査区間と後の走査区間との間に重複走査部分(重複長可変)を設けておき、後の走査区間の前の走査区間との重複走査部分から得られる検出信号を除外してマーク信号を形成させる。【効果】走査区間に重複部分を設けない場合に、走査区間の切り換えに伴って走査再開時に発生する偽信号がマーク信号の接続部に入り込むのを排除することができ、安定かつ高精度のマーク位置検出が可能となる。

Claim (excerpt)：

電子ビームによりマーク上を走査して得られるマーク信号を用いて上記マークの位置を検出する電子ビーム描画装置におけるマーク位置検出方法であって、上記電子ビームによるマーク上の走査は、上記電子ビームの走査区間を設定するための第1の電子ビーム偏向器と該第1の電子ビーム偏向器により設定された走査区間内を上記電子ビームで走査するための第2の電子ビーム偏向器とを組み合わせて用いることによって、上記電子ビームで上記マーク上の順次隣合う走査区間を連ねて走査して行く方式によるものであり、その際上記第1の電子ビーム偏向器による走査区間の設定は、互いに隣合う走査区間同士が重複部分を有するようにして行なわれることを特徴とするマーク位置検出方法。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 9/00

FI (4)：

H01L 21/30 541 K ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 541 J