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J-GLOBAL ID：200903066362607520

プラズマ処理装置

Inventor： 石橋 清隆 ,  茂山 和基
Applicant, Patent owner： 株式会社神戸製鋼所
Agent (1)： 本庄 武男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000046517
Publication number (International publication number)：2001237099
Application date： Feb. 23, 2000
Publication date： Aug. 31, 2001
Summary：

【要約】【課題】 従来のハイブリッド型のプラズマ処理装置では,誘導結合アンテナの高周波電源からアノード電極の高周波電源に高周波電力が流入するのを防止するために,誘導結合アンテナとアノード電極との間にファラデーシートを設けたりしていたが,装置構成が複雑になったり電力損が増大するなどの問題があった。【解決手段】 本発明は,誘導結合アンテナの高周波電源接続側とは逆端を容量素子を介して接地することにより,簡単且つ安価にアノード電極の高周波電源の故障を防止することを図ったものである。

Claim (excerpt)：

基板を載置するカソード電極と,該カソード電極に対向して配置される誘導結合アンテナと,前記カソード電極と前記誘導結合アンテナの間に前記カソード電極と対向して配置されるアノード電極と,前記カソード電極,アノード電極,及び誘導結合アンテナそれぞれに高周波電力を供給する高周波電源とを具備してなるプラズマ処理装置において,前記誘導結合アンテナの前記高周波電源接続側とは逆端を容量素子を介して接地してなることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (4)：

H05H 1/46 ,  C23C 16/509 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065

FI (5)：

H05H 1/46 L ,  H05H 1/46 M ,  C23C 16/509 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 B

F-Term (13)：

4K030FA01 ,  4K030HA07 ,  4K030KA14 ,  4K030KA30 ,  5F004BA04 ,  5F004BA20 ,  5F004CA03 ,  5F045AA08 ,  5F045BB08 ,  5F045DP02 ,  5F045EH02 ,  5F045EH14 ,  5F045EH20