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J-GLOBAL ID：200903066409423805
シリコンウエハーの洗浄方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992275071
Publication number (International publication number)：1994104237
Application date： Sep. 19, 1992
Publication date： Apr. 15, 1994
Summary：
【要約】【目的】本発明は、シリコンウェハーの洗浄工程にて、スピンナー乾燥の際に、シリコンウェハー表面に水滴が残らないようにした、シリコンウェハーの洗浄方法を提供することを目的とする。【構成】シリコンウェハー10の表面に親水性の自然酸化膜11を形成して、該シリコンウェハー全体を洗浄用純水で洗浄した後、該シリコンウェハーをスピンナーにより乾燥させることにより、上記親水性の自然酸化膜11上に、水滴が残らないように、シリコンウェハーの洗浄方法を構成する。
Claim (excerpt)：
シリコンウェハーの表面に親水性の自然酸化膜を形成して、該シリコンウェハー全体を洗浄用純水で洗浄した後、該シリコンウェハーをスピンナーにより乾燥させることにより、上記親水性の自然酸化膜上に、水滴が残らないようにしたことを特徴とする、シリコンウェハーの洗浄方法。
IPC (2)：
H01L 21/304 351
, H01L 21/316
