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J-GLOBAL ID：200903066426821652

光導波路の製造方法

Inventor： 小熊 学 ,  大森 保治 ,  服部 邦典 ,  岡崎 久晃
Applicant, Patent owner： 日本電信電話株式会社
Agent (1)： 秋田 収喜
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996233784
Publication number (International publication number)：1998078523
Application date： Sep. 04, 1996
Publication date： Mar. 24, 1998
Summary：

【要約】【課題】 光導波路形成時の伝搬損失・曲げ損失の低下と再現性向上。【解決手段】 基板主面に形成した下部クラッド層の表面にコア部形成用の溝を形成した後、前記下部クラッド層上に前記溝を埋めるようにコア層を形成し、前記基板の主面側を所定の厚さ除去して前記溝にのみ前記コア層を残留させて光伝搬作用をするコア部を形成し、その後前記基板の主面側に上部クラッド層を形成して前記コア部を埋め込んで光導波路を形成する光導波路の製造方法であって、前記コア部形成後、前記コア部の両側または一側の下部クラッド層表面に前記コア部に沿う拡散防止溝を形成し、その後熱処理を施し、ついで前記上部クラッド層を形成して前記拡散防止溝を被い光導波路を形成する。

Claim (excerpt)：

基板主面に形成した下部クラッド層の表面にコア部形成用の溝を形成した後、前記下部クラッド層上に前記溝を埋めるようにコア層を形成し、前記基板の主面側を所定の厚さ除去して前記溝にのみ前記コア層を残留させて光伝搬作用をするコア部を形成し、その後前記基板の主面側に上部クラッド層を形成して前記コア部を埋め込んで光導波路を形成する光導波路の製造方法であって、前記コア部形成後、前記コア部の両側または一側の下部クラッド層表面に前記コア部に沿う拡散防止溝を形成し、その後熱処理を施し、ついで前記上部クラッド層を形成して前記拡散防止溝を被うことを特徴とする光導波路の製造方法。

IPC (3)：

G02B 6/13 ,  G02F 1/313 ,  H01S 3/06

FI (3)：

G02B 6/12 M ,  G02F 1/313 ,  H01S 3/06