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J-GLOBAL ID：200903066455172744

CMP排液の凝集処理方法

Inventor： 古川 征弘
Applicant, Patent owner： 栗田工業株式会社
Agent (1)： 柳原 成
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997190127
Publication number (International publication number)：1999033560
Application date： Jul. 15, 1997
Publication date： Feb. 09, 1999
Summary：

【要約】【課題】 アルミニウム塩または鉄塩の無機系凝集剤では凝集しないCMP(Chemical Mechanical Polishing)排液を、簡単な操作で凝集処理する。【解決手段】 半導体製造工程の研磨工程から排出されるSiO2微粒子が懸濁したCMP排液10をカルシウム反応槽1に導入し、Ca(OH)2、CaCl2などのカルシウムイオン源11を添加した後、無機系凝集剤反応槽2に導入し、無機系凝集剤15を添加して凝集処理する。さらに高分子凝集剤反応槽3において高分子凝集剤22を添加し、フロック生長槽4において大形のフロックを形成させる。沈殿槽5で固液分離した分離液は処理水32として系外に排出し、分離固形分は脱水装置6で脱水処理する。

Claim (excerpt)：

CMP排液にカルシウムイオンを添加した後、無機系凝集剤を添加し攪拌して凝集処理を行うことを特徴とするCMP排液の凝集処理方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• シリコン切削廃液の処理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-309317   Applicant：住友シチックス株式会社
• 特開平4-358594