ポリ塩化ビフェニルで汚染された汚染物の処理方法とその処理装置

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：藤本昇
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2009074577
Publication number (International publication number)：2009172603
Application date： Mar. 25, 2009
Publication date： Aug. 06, 2009
Summary：

【課題】ポリ塩化ビフェニル(PCB)に汚染された汚泥、ウエス、感圧紙、蛍光灯安定器などPCBを微量に含む工業製品、並びに樹脂・鋼・コンクリートなどで製作されたPCB保管容器等、性状やPCB濃度の一定しない汚染物を一括して迅速に処理できる処理方法及びその装置を提供することを課題とする。【解決手段】ポリ塩化ビフェニルで汚染された汚染物をプラズマ分解装置で分解した後、汚染物の分解によって発生する排気を1100°C〜1400°Cの温度に維持された恒温チャンバ内に1〜5秒間滞留させて処理し、該プラズマ分解装置での汚染物の分解によって発生する排気を減温塔にて冷却し、バグフィルタで除塵し、前記プラズマ分解装置の下流側における系内の流路を一部分岐させ、減温塔とバグフィルタとの間の流路へ排気を返送して循環させる循環流路を形成するとともに、前記循環流路で排気を循環させることにより、プラズマ分解装置の炉内の圧力を大気圧よりも低い一定の圧力に制御することを特徴とする。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

ポリ塩化ビフェニルで汚染された汚染物をプラズマ分解装置で分解した後、汚染物の分解によって発生する排気を1100°C〜1400°Cの温度に維持された恒温チャンバ内に1〜5秒間滞留させて処理し、該プラズマ分解装置での汚染物の分解によって発生する排気を減温塔にて冷却し、バグフィルタで除塵し、前記プラズマ分解装置の下流側における系内の流路を一部分岐させ、減温塔とバグフィルタとの間の流路へ排気を返送して循環させる循環流路を形成するとともに、前記循環流路で排気を循環させることにより、プラズマ分解装置の炉内の圧力を大気圧よりも低い一定の圧力に制御することを特徴とするポリ塩化ビフェニルで汚染された汚染物の処理方法。

IPC (4)：

B09B 3/00 , C02F 11/10 , B01D 53/70 , A62D 3/19

FI (4)：

B09B3/00 302Z , C02F11/10 A , B01D53/34 134E , A62D3/19

F-Term (49)：

4D002AA02 , 4D002AA12 , 4D002AA19 , 4D002AA21 , 4D002AC05 , 4D002AC10 , 4D002BA03 , 4D002BA04 , 4D002BA05 , 4D002BA06 , 4D002BA13 , 4D002BA14 , 4D002CA11 , 4D002CA13 , 4D002DA05 , 4D002DA07 , 4D002DA70 , 4D002GA01 , 4D002GA03 , 4D002GB03 , 4D002GB04 , 4D002GB20 , 4D004AA02 , 4D004AA12 , 4D004AA22 , 4D004AA33 , 4D004AB06 , 4D004CA43 , 4D004CA50 , 4D004CB02 , 4D004CB42 , 4D004CB43 , 4D004DA02 , 4D004DA03 , 4D004DA06 , 4D004DA07 , 4D004DA20 , 4D059AA18 , 4D059BB03 , 4D059BB17 , 4D059BK24 , 4D059CA14 , 4D059EB08 , 4D059EB10 , 4D059EB20 , 4H006AA02 , 4H006AC26 , 4H006BD80 , 4H006BD84

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

高温廃棄物処理の方法およびシステム
Gazette classification：公表公報 Application number：特願平10-503078 Applicant：サイエンスアプリケイションズインターナショナルコーポレイション

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