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J-GLOBAL ID：200903066603870553

純水の製造方法

Inventor： 田村 真紀夫 ,  鈴木 菜穂子
Applicant, Patent owner： オルガノ株式会社
Agent (1)： 若林 忠
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993271691
Publication number (International publication number)：1995116660
Application date： Oct. 29, 1993
Publication date： May. 09, 1995
Summary：

【要約】【目的】 純水中のシリカ濃度を低減すると共に、水の利用効率を高める。【構成】 シリカ濃度が20μgSiO2 /L以下の給水を逆浸透膜装置に供給して、給水を透過水と濃縮水とに逆浸透膜分離する純水の製造方法において、前記逆浸透膜装置の透過水量を給水の供給水量に対して80%以下としてシリカ濃度を低減させる。更に濃縮水をイオン交換処理して逆浸透膜装置の給水に戻すことにより、水の利用効率を高める。

Claim (excerpt)：

シリカ濃度が20μgSiO2 /L以下の給水を逆浸透膜装置に供給して給水を透過水と濃縮水とに逆浸透膜分離する純水の製造方法において、前記逆浸透膜装置の透過水量を給水の供給水量に対して80%以下とすることを特徴とする純水の製造方法。