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J-GLOBAL ID：200903066610491460

位相差顕微鏡

Inventor： 石渡 裕
Applicant, Patent owner： オリンパス光学工業株式会社
Agent (1)： 杉村 暁秀 (外5名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994235420
Publication number (International publication number)：1996094936
Application date： Sep. 29, 1994
Publication date： Apr. 12, 1996
Summary：

【要約】【目的】 観察すべき標本が比較的厚い場合に、本来標本には存在しない空間周波数成分(非線形項)の影響を低減して、正確な位相差像を再現できる位相差顕微鏡を提供する。【構成】 照明光学系1の瞳位置に輪帯状の開口2を配置し、照明光学系1と結像光学系3とを含む光学系の全部もしくは一部に関して、輪帯状の開口2と標本面を介して共役な位置関係にある結像光学系3の瞳位置に位相板4を配置して、標本面に配置される標本5を位相差法により観察するようにした位相差顕微鏡において、位相板4を、複数の異なる変調領域をもって構成する。

Claim (excerpt)：

照明光学系の瞳位置に輪帯状の開口を配置し、前記照明光学系と結像光学系とを含む光学系の全部もしくは一部に関して、前記輪帯状の開口と標本面を介して共役な位置関係にある前記結像光学系の瞳位置に位相板を配置して、前記標本面に配置される標本を位相差法により観察するようにした位相差顕微鏡において、前記位相板を、複数の異なる変調領域をもって構成したことを特徴とする位相差顕微鏡。

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 特開平3-027515
  
• 特開昭58-184115
  
• 特公昭27-000970
  

Cited by examiner (3)

• 特開平3-027515
  
• 特開昭58-184115
  
• 特公昭27-000970