Pat

J-GLOBAL ID：200903066612337299

基板洗浄方法及び基板洗浄装置

Inventor： 国安 仁
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (1)： 松隈 秀盛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998168608
Publication number (International publication number)：2000003897
Application date： Jun. 16, 1998
Publication date： Jan. 07, 2000
Summary：

【要約】【課題】 枚葉スピン洗浄における乾燥効果の向上、乾燥促進に用い溶媒の量の節減を図る。【解決手段】 基板23を洗浄した後、回転させて基板表面の水滴を振り切り乾燥する基板洗浄方法であって、乾燥時の基板表面に霧化した溶媒31を供給する。

Claim (excerpt)：

基板を洗浄した後、回転させて基板表面の水滴を振り切り乾燥する基板洗浄方法であって、乾燥時の前記基板表面に霧化した溶媒を供給することを特徴とする基板洗浄方法。

IPC (2)：

H01L 21/304 651 ,  H01L 21/304

FI (3)：

H01L 21/304 651 ,  H01L 21/304 651 H ,  H01L 21/304 651 L