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J-GLOBAL ID：200903066635188410

露光装置

Inventor： 樋口 朗 ,  栗山 洋一
Applicant, Patent owner： 京セラ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000017944
Publication number (International publication number)：2001210579
Application date： Jan. 24, 2000
Publication date： Aug. 03, 2001
Summary：

【要約】【課題】駆動系の振動の影響を低減して、ステージ位置の計測誤差を低減できる露光装置を提供する。【解決手段】露光手段を搭載する第1の定盤1と、露光される試料を搭載するステージ基板5を所定位置に移動するためのスライド軸8を支持するスライド軸受け9と駆動源としてのアクチュエータ7を搭載する第2の定盤2とを分離独立して備え、ステージ基板5の位置を計測するレーザー測長系6の干渉計13を第1の定盤1に配置する。

Claim (excerpt)：

露光手段を搭載する第1の定盤と、露光される試料を搭載するステージを所定位置に移動するためのスライド軸を支持するスライド軸受けと駆動源としてのアクチュエータを搭載する第2の定盤とを分離独立して備え、前記ステージの位置を計測するレーザー測長系の干渉計を前記第1の定盤に配置するように構成したことを特徴とする露光装置。

IPC (4)：

H01L 21/027 ,  F16C 32/06 ,  G01B 11/00 ,  G03F 7/20 504

FI (5)：

F16C 32/06 ,  G01B 11/00 G ,  G03F 7/20 504 ,  H01L 21/30 541 L ,  H01L 21/30 516 B

F-Term (22)：

2F065AA01 ,  2F065AA06 ,  2F065CC00 ,  2F065FF51 ,  2F065GG04 ,  2F065HH13 ,  2F065JJ01 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ09 ,  2F065LL12 ,  2F065QQ51 ,  2H097BA10 ,  2H097CA16 ,  2H097LA10 ,  3J102AA02 ,  3J102EA02 ,  3J102GA19 ,  5F046CC01 ,  5F046CC16 ,  5F046CC19 ,  5F056EA14 ,  5F056EA17