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J-GLOBAL ID:200903066653028225
レジスト組成物
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994187833
Publication number (International publication number):1996029985
Application date: Jul. 18, 1994
Publication date: Feb. 02, 1996
Summary:
【要約】【目的】 新規な感放射線性レジスト組成物を提供する。【構成】 樹脂結合剤と酸発生剤とを含有する放射線感応性組成物であって、樹脂結合剤が樹脂中の少なくとも一部のヒドロキシル基の水素原子が次式(1)-COCOOR1または(2)-C(R2)(R3)COCOOR1(式(1)および(2)中、共通してR1は炭素数1〜10のアルキル基、アルケニル基、1-アルコキシアルキル基、置換可シクロアルキル基、置換可2-プロペニル基、置換可シクロアルケニル基、置換可シクロアルカジエニル基、置換可ビニル基、トリアルコキシメチル基であり、R2およびR3は同一または互いに異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜5のアルキル基、シアノ基である。)で表される少なくともひとつの基によって置換されているフェノール系樹脂であることを特徴とするレジスト組成物。
Claim (excerpt):
樹脂結合剤と酸発生剤とを含有する放射線感応性組成物であって、樹脂結合剤が樹脂中の少なくとも一部のヒドロキシル基の水素原子が次式(1)-COCOOR1または(2)-C(R2)(R3)COCOOR1(式(1)および(2)中、共通してR1は炭素数1〜10のアルキル基、アルケニル基、1-アルコキシアルキル基、置換可シクロアルキル基、置換可2-プロペニル基、置換可シクロアルケニル基、置換可シクロアルカジエニル基、置換可ビニル基、トリアルコキシメチル基であり、R2およびR3は同一または互いに異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜5のアルキル基、シアノ基である。)で表される少なくともひとつの基によって置換されているフェノール系樹脂であることを特徴とするレジスト組成物。
IPC (4):
G03F 7/039 501
, G03F 7/004 503
, G03F 7/023 511
, H01L 21/027
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (9)
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感光性組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-287820
Applicant:株式会社東芝
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レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-224720
Applicant:日本ゼオン株式会社
-
感光性組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-238253
Applicant:株式会社東芝
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ポジ型化学増幅フォトレジスト及びレジストパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-124967
Applicant:富士通株式会社
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感放射線性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-346561
Applicant:日本合成ゴム株式会社
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レジスト塗布組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-059928
Applicant:日本合成ゴム株式会社
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感放射線性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-073169
Applicant:日本合成ゴム株式会社
-
感放射線性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-116722
Applicant:日本合成ゴム株式会社
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レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-108821
Applicant:日本ゼオン株式会社
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