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J-GLOBAL ID：200903066660774315
反射防止膜用組成物
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996276573
Publication number (International publication number)：1998120940
Application date： Oct. 18, 1996
Publication date： May. 12, 1998
Summary：
【要約】【課題】 レジストと該反射防止膜用組成物との相互拡散が減少し,解像力およびレジスト膜厚依存性に優れ、しかもドライエッチング速度に優れる反射防止膜を与える組成物を提供する。【解決手段】 (A)吸光剤成分としての,特定の繰り返し単位を構成成分とする高分子,および(B)メチロール基、アルコキシメチル基またはアシロキシメチル基で置換された,メラミン、グアナミン、グリコールウリルまたはウレアの誘導体,または(C)2個の水素原子が,メチロール基、アルコキシメチル基またはアシロキシメチル基により置換されたフェノール,ナフトールまたはヒドロキシアントラセンの誘導体を含有する反射防止膜用組成物およびこの組成物を用いたレジストパタ-ン形成方法が提供される。
Claim (excerpt)：
(A)吸光剤成分としての,下記一般式(1)、(2)および(3)で表される繰り返し単位からなる群から選択される少なくとも一種の繰り返し単位(a)を構成成分とする高分子,および(B)メチロール基、アルコキシメチル基およびアシロキシメチル基からなる群から選択される少なくとも1種の基で置換された,メラミン誘導体、グアナミン誘導体、グリコールウリル誘導体およびウレア誘導体からなる群から選択される少なくとも1種の化合物(b),を含有することを特徴とする反射防止膜用組成物。【化1】(上記式中、R1は、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、ハロゲン原子またはシアノ基を表し;R2およびR3は,同一または異って、水素原子、炭素数1〜20の炭化水素基、炭素数1〜6のアルコキシ基、-OHまたは-SHを表し;Xは2価の基を表し;P1およびP2は,同一または異って、炭素数5〜14の芳香族基を表し;Y1およびY2は,同一または異って,電子供与性基,ハロゲン原子を表し;mおよびnは,同一または異って,0〜3の整数を表し,mおよびnが各々2または3の場合、複数個のY1およびY2は,各々同一または異っていてもよく;Qは酸素原子、-CO-、イオウ原子、-NR’-(ここで,R’は水素原子または炭素数1〜20のアルキル基を表す)、単結合またはアルキレン基を表す。)
IPC (7)：
C09D 5/00
, G03F 7/004 506
, G03F 7/11 503
, H01L 21/027
, C08F 12/26
, C08L 25/18
, C08L 57/12
C09D 5/00 M
, G03F 7/004 506
, G03F 7/11 503
, C08F 12/26
, C08L 25/18
, C08L 57/12
, H01L 21/30 574
