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J-GLOBAL ID：200903066697676577
ホログラフィック露光装置調整方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
縣 浩介
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992212144
Publication number (International publication number)：1994034807
Application date： Jul. 16, 1992
Publication date： Feb. 10, 1994
Summary：
【要約】【目的】 ホログラフィック露光法で回折格子を作成する場合、露光用2光束を光路差を最適に合わせること。【構成】 露光装置の格子基板を置く位置に格子定数(格子線ピッチ)が製作目的の格子の2倍である回折格子を置き、露光2光束の夫々のこの格子の格子面に垂直な方向の回折光を相互干渉させ、露光2光束の方の光路長を上記干渉の明暗差が最大になるように調節する。【効果】 露光2光束の光路長を上記のようにして合わせると、露光時の干渉縞のコントラストが最大となる。
Claim (excerpt)：
ホログラフィック露光装置で露光すべき基板を置く位置に回折格子を置いて、露光すべき2光束をこの回折格子に照射したとき、同回折格子によって回折される上記各光束の互いに同次数反対符号の回折光が上記回折格子の格子面に略垂直で互いに略平行となるように回折格子の格子定数を選んで、その回折格子を上記基板設置位置において、同回折格子中央に立てた垂線に垂直な面上に形成されている干渉像を受光素子で受光検出して、この干渉像のコントラストが最高になるように上記2光束の光路長を調節することを特徴とするホログラフィック露光装置調整方法。
IPC (2)：
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