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J-GLOBAL ID：200903066713076780

フェニル環及びラクトン基が共存する感光性ポリマー及びレジスト組成物

Inventor： 李 始 ▲けい▼
Applicant, Patent owner： 三星電子株式会社
Agent (1)： 八田 幹雄 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001386341
Publication number (International publication number)：2002201223
Application date： Dec. 19, 2001
Publication date： Jul. 19, 2002
Summary：

【要約】【課題】 フェニル環及びラクトン基が共存する感光性ポリマー及びレジスト組成物を提供する。【解決手段】 下記式:【化1】で表わされる基のうちいずれか一つを有するモノマーユニットを含む感光性ポリマーとPAGとを含むレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

下記式(1):【化1】で表わされる基を有するモノマーユニットを含むことを特徴とする感光性ポリマー。

IPC (4)：

C08F 20/30 ,  C08F 12/22 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (4)：

C08F 20/30 ,  C08F 12/22 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (44)：

2H025AA03 ,  2H025AA09 ,  2H025AA14 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4J100AB07Q ,  4J100AB07R ,  4J100AL08P ,  4J100BA02Q ,  4J100BA02R ,  4J100BA03H ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA05H ,  4J100BA05Q ,  4J100BA05R ,  4J100BA11P ,  4J100BC43P ,  4J100BC53P ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA31 ,  4J100DA36 ,  4J100HA08 ,  4J100HA61 ,  4J100HB43 ,  4J100HC13 ,  4J100HE05 ,  4J100HE14 ,  4J100HE41 ,  4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

• 新規ポリマー
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-360046   Applicant：和光純薬工業株式会社, 松下電器産業株式会社
• 新規ポリマー
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-035572   Applicant：和光純薬工業株式会社
• 新規なレジスト材料及びパタ-ン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-173830   Applicant：和光純薬工業株式会社
• 放射線感応性混合物及びレリーフ構造の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-004516   Applicant：ビーエーエスエフアクチェンゲゼルシャフト
• 塗料用樹脂及び防汚塗料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-113543   Applicant：日立化成工業株式会社
• 特開昭63-113451
  
• X線分析装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-195523   Applicant：株式会社堀場製作所