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J-GLOBAL ID：200903066728139109
配管クリーニング機構
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
梶山 佶是 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992090256
Publication number (International publication number)：1993263248
Application date： Mar. 16, 1992
Publication date： Oct. 12, 1993
Summary：
【要約】【構成】 ウエハを載置するための加熱可能な試料台と、ウエハ表面に所定の薄膜を形成するのに必要な反応ガスを導入する手段とを備える反応炉を有する常圧CVD装置の排気ダクトに接続された排気管のクリーニング機構であって、前記排気管の外壁面に少なくとも1個以上の超音波振動子が配設されている。【効果】 排気管をCVD装置本体から取り外すことなく、自動的に清掃することができる。これにより、CVD装置周辺のメンテナンス作業の効率が向上されるばかりか、作業者が微細なフレーク粉塵に接触する危険性が皆無となり労働安全性も向上する。更に、排気管内のフレークを定期的に簡単に除去できるため、プロセス条件を常に一定に保つことができ、成膜歩留りの向上につながる。
Claim (excerpt)：
ウエハを載置するための加熱可能な試料台と、ウエハ表面に所定の薄膜を形成するのに必要な反応ガスを導入する手段とを備える反応炉を有する常圧CVD装置の排気ダクトに接続された排気管のクリーニング機構であって、前記排気管の外壁面に少なくとも1個以上の超音波振動子が配設されていることを特徴とする配管クリーニング機構。
IPC (5)：
C23C 16/00
, B08B 3/12
, B08B 9/02
, C30B 25/14
, H01L 21/31
