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J-GLOBAL ID：200903066766591236

スピロ[4.4]ノナシランおよびそれを含有する組成物

Inventor： 江幡 敏 ,  松木 安生
Applicant, Patent owner： ジェイエスアール株式会社
Agent (1)： 大島 正孝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000164102
Publication number (International publication number)：2001348219
Application date： Jun. 01, 2000
Publication date： Dec. 18, 2001
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 新規なスピロシラン化合物、その用途や利用法を提供すること。【解決手段】 新規化合物であるスピロ[4.4]ノナシランは、ヘキサデカフェニルスピロ[4,4]ナノシランをルイス酸の存在下、塩化水素ガスと反応せしめてヘキサデカクロロスピロ[4,4]ナノシランを生成せしめ、次いでこれを水素化するスピロ[4,4]ナノシランとする方法、その用途、それを含有する組成物およびこの組成物を利用して水素化ケイ素化合物を出発シリコン源として支持体上にシリコン膜を形成する方法。

Claim (excerpt)：

(1)下記式(A)【化1】で表されるスピロ[4.4]ノナシラン。

IPC (2)：

C01B 33/04 ,  C01B 33/02

FI (2)：

C01B 33/04 ,  C01B 33/02 D

F-Term (9)：

4G072AA05 ,  4G072BB09 ,  4G072GG03 ,  4G072HH28 ,  4G072JJ14 ,  4G072KK01 ,  4G072RR01 ,  4G072UU01 ,  4G072UU02