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J-GLOBAL ID：200903066783364626

成膜装置およびこれを用いた磁気記録媒体の製造方法

Inventor： 川名 隆宏 ,  平塚 亮一 ,  林 弘志
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (1)： 小池 晃 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995123433
Publication number (International publication number)：1996319567
Application date： May. 23, 1995
Publication date： Dec. 03, 1996
Summary：

【要約】【構成】 真空室1内に、非磁性支持体上に金属磁性薄膜が形成されてなるフィルム2を円筒キャン5の周面に走行させ、該円筒キャン5の周面との距離が一定となるように円弧状となされているとともに複数の空孔を有してなる電極10に所定の電圧を印加しながら、所定のガスを該電極10の空孔を介して前記フィルム2に向けて供給し、化学的気相成長法により、前記フィルム2上にダイヤモンド状カーボン膜よりなる保護膜を成膜する。【効果】 本発明の成膜装置を適用すると、硬度が高く、優れた耐久性を有する薄膜が成膜できる。このため、この成膜装置によって保護膜の成膜を行うと、耐久性に優れ、磁気特性の経時変化が少ない、信頼性の高い磁気記録媒体を製造できる。

Claim (excerpt)：

真空室内に、被成膜体を走行させる円筒キャンと、前記円筒キャンの周面との距離が一定となるように円弧状となされているとともに、複数の空孔を有してなる電極と、前記電極の空孔を介して所定のガスを前記被成膜体に向けて供給するガス供給口とを有し、化学的気相成長法により、前記被成膜体上に所望の薄膜を成膜することを特徴とする成膜装置。

IPC (3)：

C23C 16/26 ,  C23C 16/50 ,  G11B 5/84

FI (3)：

C23C 16/26 ,  C23C 16/50 ,  G11B 5/84 B