Pat
J-GLOBAL ID:200903066785339211
異なる基材上のUV吸収用ポリマーラテックス
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
鈴江 武彦 (外4名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2000562434
Publication number (International publication number):2003506492
Application date: Jul. 07, 1999
Publication date: Feb. 18, 2003
Summary:
【要約】紫外線吸収性ポリマーラテックスの製造方法が提供される。本発明の方法は、連鎖移動剤、好ましくは1-ドデカンチオールの存在下におけるベンゾトリアゾールもしくはベンゾフェノン含有モノマーとビニル官能性モノマーとのエマルジョン重合を含む。本ラテックスは、多くの異なる基材、最も顕著には布に対し、優れた、永続的な、適用が簡単で、除去が困難な紫外線吸収特性を提供する。本発明のラテックスにより被覆され、覆われ、積層された異なる物品および布等も提供される。
Claim (excerpt):
エマルジョン重合により紫外線吸収性コポリマーラテックスを製造する方法であって、 少なくとも1種の重合開始剤および少なくとも1種の連鎖移動剤の存在下に、 (a)ベンゾトリアゾール、ベンゾフェノンおよびそれらの混合物から本質的になる群の中から選ばれる少なくとも1種の紫外線吸収性官能基を有する少なくとも1種のビニル官能性モノマー、および (b)ベンゾトリアゾールもしくはベンゾフェノン基を含まない少なくとも1種のビニル官能性モノマーを互いに混合することを包含する紫外線吸収性コポリマーラテックスを製造する方法。
IPC (8):
C08F220/36
, C08F 2/22
, C08F 2/38
, C08F220/30
, C09K 3/00 104
, C09K 3/00
, D06M 10/02
, D06M 15/263
FI (8):
C08F220/36
, C08F 2/22
, C08F 2/38
, C08F220/30
, C09K 3/00 104 A
, C09K 3/00 104 C
, D06M 10/02 A
, D06M 15/263
F-Term (38):
4J011KB14
, 4J011NA25
, 4J011NB04
, 4J100AL03P
, 4J100AL04P
, 4J100AL05P
, 4J100AL08Q
, 4J100BA03Q
, 4J100BA12Q
, 4J100BC43Q
, 4J100BC75Q
, 4J100CA04
, 4J100DA65
, 4J100FA03
, 4J100FA04
, 4J100FA20
, 4L031AA02
, 4L031AA03
, 4L031AA18
, 4L031AA20
, 4L031AA22
, 4L031AB32
, 4L031AB33
, 4L031AB34
, 4L031BA34
, 4L031CB02
, 4L031DA18
, 4L033AA02
, 4L033AA03
, 4L033AA04
, 4L033AA07
, 4L033AA08
, 4L033AB05
, 4L033AB06
, 4L033AB07
, 4L033AC15
, 4L033BA55
, 4L033CA18
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
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特開平4-316679
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特開平4-316679
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特開平4-316679
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