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J-GLOBAL ID：200903066788369979

ラジカル処理装置

Inventor： 村 田 隆 昭 ,  飯 島 崇 文 ,  久 保 貴 恵 ,  沖 田 裕 二
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 吉武 賢次 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002126950
Publication number (International publication number)：2003320373
Application date： Apr. 26, 2002
Publication date： Nov. 11, 2003
Summary：

【要約】【課題】 ラジカルを有効活用し、排水中に含まれる難分解性有機物の分解効率の向上を図る。【解決手段】 本発明のラジカル処理装置は、難分解性有機物を含有し得る排水を噴出する噴出ノズル(3)と、この噴出ノズルから噴出された霧状の排水を高電界にさらすための少なくとも一対の放電電極(4,6)と、この放電電極に放電のための高電圧を印加する高圧電源(8)とを備える。

Claim (excerpt)：

難分解性有機物を含有し得る排水を噴出する噴出ノズルと、この噴出ノズルから噴出された霧状の排水を高電界にさらすための少なくとも一対の放電電極と、この放電電極に放電のための高電圧を印加する高圧電源とを備えたラジカル処理装置。

F-Term (10)：

4D061DA08 ,  4D061DB19 ,  4D061DC08 ,  4D061EA13 ,  4D061EB02 ,  4D061EB09 ,  4D061EB34 ,  4D061EB35 ,  4D061ED06 ,  4D061ED20

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 光による水処理
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-114095   Applicant：宝田正昭, 有限会社栄豊工業
• プラズマ反応器及びそれを利用した廃水処理装置並びにその方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-195801   Applicant：エルジー産電株式会社
• 特開昭49-021947
  
• 特開昭51-032051