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J-GLOBAL ID:200903066793571271
均一性制御のための分割高周波電極装置および方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (4):
大塚 康徳
, 高柳 司郎
, 大塚 康弘
, 木村 秀二
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2006545761
Publication number (International publication number):2007523470
Application date: Dec. 10, 2004
Publication date: Aug. 16, 2007
Summary:
プラズマ処理で使用するための分割高周波(RF)電極。この電極は、第1電極と、第1電極を取り囲む第2電極と、第1電極と第2電極の間に挿入された誘電材料とを含む。この誘電材料は、第1電極を第2電極から電気的に分離する。少なくとも1つの二重周波高周波電源が、第1周波数および第2周波数でRF電力を出力する。第1周波数と第2周波数は異なるので、少なくとも1つの高周波スイッチが、少なくとも1つの二重周波源から、第1電極、第2電極、または第1電極および第2電極に、少なくとも第1周波数または第2周波数を送る。
Claim (excerpt):
プラズマ処理に使用するための分割高周波電極装置であって、
第1電極と、
前記第1電極を取り囲む第2電極と、
前記第1電極と前記第2電極の間に挿入され、前記第1電極を前記第2電極から電気的に分離する誘電材料と、
互いに異なる第1周波数および第2周波数で高周波電力を出力するように適合された少なくとも1つの二重周波高周波電源と、
前記少なくとも1つの二重周波高周波電源から、前記第1電極、前記第2電極、または前記第1電極および前記第2電極に対する、前記第1周波数または前記第2周波数の経路を少なくとも定めるように適合された、少なくとも1つの高周波スイッチとを備えることを特徴とする装置。
IPC (3):
H01L 21/306
, C23C 16/509
, H05H 1/46
FI (3):
H01L21/302 101B
, C23C16/509
, H05H1/46 M
F-Term (9):
4K030CA04
, 4K030CA12
, 4K030FA03
, 4K030KA30
, 4K030LA15
, 5F004AA01
, 5F004BA04
, 5F004BB18
, 5F004BD04
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