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J-GLOBAL ID：200903066805848290

ポリロタキサンの製造方法

Inventor： 高田 十志和 ,  木原 伸浩 ,  樋上 和馬
Applicant, Patent owner： 株式会社ブリヂストン
Agent (1)： 杉村 興作
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003310144
Publication number (International publication number)：2005075979
Application date： Sep. 02, 2003
Publication date： Mar. 24, 2005
Summary：

【課題】置換シクロデキストリンと末端に水酸基を有するポリマーとから形成した擬ポリロタキサンにエンドキャップしてポリロタキサンを製造するための新規の方法を提供する。【解決手段】(i)水酸基がエンドキャップ剤と反応しない基に置換されたシクロデキストリンと両末端が水酸基の直鎖状ポリマーとから擬ポリロタキサンを生成させ、(ii)該擬ポリロタキサンとエンドキャップ剤とを固相反応させることを特徴とし、好ましくは、加圧しながら混合して固相反応させることを特徴とするポリロタキサンの製造方法である。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

(i)水酸基がエンドキャップ剤と反応しない基に置換されたシクロデキストリンと両末端が水酸基の直鎖状ポリマーとから擬ポリロタキサンを生成させ、(ii)該擬ポリロタキサンとエンドキャップ剤とを固相反応させることを特徴とするポリロタキサンの製造方法。

IPC (1)：

C08B37/16

FI (1)：

C08B37/16

F-Term (5)：

4C090AA05 ,  4C090BA11 ,  4C090CA35 ,  4C090CA38 ,  4C090CA46