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J-GLOBAL ID：200903066817024250

部分的に保護されたフェノール樹脂の製造法

Inventor： カール-ローレンツ・メルテスドルフ ,  ベルトルト・ナータル ,  ハンス-ヨルク・キルナー
Applicant, Patent owner： オー・シー・ジー・マイクロエレクトロニツク・マテリアルズ・インコーポレイテツド
Agent (1)： 高木 千嘉 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995330238
Publication number (International publication number)：1996231638
Application date： Dec. 19, 1995
Publication date： Sep. 10, 1996
Summary：

【要約】【課題】 フォトレジストに用いる酸に不安定なアセタールまたはケタール保護基を有するフェノール樹脂を製造するための方法の提供。【解決手段】 酸触媒の存在下でフェノール樹脂とエノールエーテルとを反応させ、次いで反応混合物を塩基性アニオン交換体で処理して耐熱性重合体を得て、これを酸フォトジェネレーターと組合わせて保存寿命が著しく改善された高い加工安定性の放射線感受性組成物とする。

Claim (excerpt)：

酸触媒の存在下でフェノール樹脂とエノールエーテルとを反応させ、次いで反応混合物を塩基性アニオン交換体で処理することによって、酸に不安定なアセタールまたはケタール保護基を有するフェノール樹脂を製造する方法。

IPC (4)：

C08F 8/28 MGY ,  C08G 8/36 NBL ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/312

FI (4)：

C08F 8/28 MGY ,  C08G 8/36 NBL ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/312