Pat
J-GLOBAL ID:200903066826583670

電界効果トランジスタ

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 後藤 洋介 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995250571
Publication number (International publication number):1997092819
Application date: Sep. 28, 1995
Publication date: Apr. 04, 1997
Summary:
【要約】【課題】 InGaAs動作層とInAlAs電子供給層を用いた電界効果トランジスタにおいて、熱的安定性に優れた構造を提供する。【解決手段】 少なくとも一部にn型ドーパントが添加されたInAlAs電子供給層4を有する電界効果トランジスタである。InAlAs電子供給層4とゲート電極10との間には、In<SB>x </SB>Al<SB>y </SB>Ga<SB>1-x-y </SB>As保護層5(y<0.3)が設けられている。【効果】 Al組成の小さいIn<SB>1-x-y </SB>Al<SB>y </SB>Ga<SB>x </SB>As層5を導入することにより、外部からの不純物が、InAlAs電子供給層4中のn-InAlAs層に到達し、n型ドーパントを不活性化することを抑えることができる。したがって、ゲート電極10形成後の熱工程においても、素子特性の劣化を抑制することができる。
Claim (excerpt):
少なくとも一部にn型ドーパントが添加されたInAlAs電子供給層を有する電界効果トランジスタにおいて、該InAlAs電子供給層とゲート電極との間にIn<SB>x </SB>Al<SB>y </SB>Ga<SB>1-x-y </SB>As保護層(y<0.3)が設けられたことを特徴とする電界効果トランジスタ。
IPC (4):
H01L 29/778 ,  H01L 21/338 ,  H01L 29/812 ,  H01L 29/872
FI (3):
H01L 29/80 H ,  H01L 29/48 F ,  H01L 29/48 H
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
Show all

Return to Previous Page