Pat

J-GLOBAL ID：200903066847713719

薄膜成膜装置

Inventor： 野浜 祥二
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (1)： 尾川 秀昭
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995336554
Publication number (International publication number)：1997181060
Application date： Dec. 25, 1995
Publication date： Jul. 11, 1997
Summary：

【要約】【課題】 被成膜処理体の表面に滴下された液状材料を常圧下での一又は複数のベーキング処理工程と減圧下での焼成処理工程を連続的に行うことにより薄膜化する薄膜成膜装置において、多品種、小量生産の下における成膜の高効率化の要求に応え、更に狭占有面積化を図る。【解決手段】 各ベーキング処理及び焼成処理をそれぞれ別個の枚葉式処理室7、8、9、14にて行うようにする。枚葉式焼成室14における加熱はランプ18により行う。

Claim (excerpt)：

被成膜処理体の表面に滴下された液状材料を常圧下での一又は複数のベーキング処理工程と減圧下での焼成処理工程を連続的に行うことにより薄膜化する薄膜成膜装置において、各ベーキング処理及び焼成処理をそれぞれ別個の枚葉式処理室にて行うようにされたことを特徴とする薄膜成膜装置

IPC (4)：

H01L 21/31 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/316 ,  H01L 21/768

FI (5)：

H01L 21/31 A ,  H01L 21/316 G ,  H01L 21/30 564 C ,  H01L 21/30 567 ,  H01L 21/90 Q